Semiconductor Manufacturing Advancements: Line Edge Roughness Reduction Feasibility Study
| Diarienummer | |
| Koordinator | AlixLabs AB |
| Bidrag från Vinnova | 500 000 kronor |
| Projektets löptid | november 2023 - mars 2024 |
| Status | Avslutat |
| Utlysning | Strategiska innovationsprogrammet Smartare elektroniksystem |
| Ansökningsomgång | Smartare elektroniksystem: Genomförbarhetsstudier 2023 |
Viktiga resultat som projektet gav
Detta projekt syftade till att undersöka genomförbarheten av att förbättra LER (Line Edge Roughness) och LWR (Line Width Roughness) hos mönstrade egenskaper i halvledarnanofabrikation. Resultatet blev ett framgångsrikt konceptbevis att laboratorieobservationer kan användas i nanofabrikation. Denna metod representerar en lovande ny teknik för att förbättra LER i tillverkning av elektroniska komponenter med nanoskaliga egenskaper, och resultaten utgör ett betydande framsteg inom området för avancerad nod nanostrukturerad fabrikation.
Långsiktiga effekter som förväntas
Vi har framgångsrikt demonstrerat förbättring i LER (Line Edge Roughness) hos Si-nanostrukturer tillverkade med EBL (elektronstrålelitografi) genom tillämpning av atomlagersetsning. Vi arbetar nu med att optimera processen för ytterligare förbättring av LER och har identifierat potentiella tillämpningsområden för vår process. Vi har utforskat möjligheterna för affärsverksamhet för AlixLabs inom den välkända halvledartillverkningsindustrin. Resultatet blev ett patent för AlxiALsb och inlämning för att representera på en vetenskaplig konferens.
Upplägg och genomförande
Varje tekniknod resulterar i mindre halvledarfunktioner; dock minskar inte LER (Line Edge Roughness) i samma proportion, eftersom detta är inneboende i litografiprocessen. Vi designade Si-mönster med olika storlekar och visade på en betydande förbättring i LER och LWR (Line Width Roughness). Ytterligare forskning behövs dock för att optimera processen och säkerställa dess skalbarhet och reproducerbarhet. Resultatet av detta projekt är lovande, och implementering i halvledartillverkning kan bidra till realiseringen av nya avancerade tekniknoder.